Kompozicija inhibitorius plieno ėsdinimo tirpalams druskos arba sieros rūgščių pagrindu
Inhibitorius Likonda® IC yra priedas skirtas naudoti plieno ėsdinimo tirpaluose druskos (HСl) arba sieros (H2SO4) rūgščių pagrindu.
Inhibitorius Likonda® IC netoksiška, nedegi, mažai putojanti medžiaga. Ėsdinantis tirpalas, savo sudėtyje turintis Likonda® IC priedą, dera su kitais galvaniniais procesais ir nutekamųjų vandenų nukenksminimo technologijomis.
Naudojant priedą inhibitorių Likonda® IC :
- pagerėja ėsdinimo tirpalo savybės šalinant nuodegas, ypatingai ėsdinant termiškai apdorotas detales;
- šalinant rūdis arba nuodegas neišsiėsdina plienas, detalės neperėsdinamos ir ėsdinimo tirpale nesikaupia geležies jonai, todėl neužteršiami geležies jonais kiti tirpalai;
- sumažėja pagrindinio metalo įsivandenilinimas ir danga yra apsaugoma nuo pūslių susidarymo;
- gaunamas švaresnis ir blizgesnis plieno paviršius;
- ėsdinant anglinį ir nitrocementuotą plieną nesusidaro šlamas;
- žymiai padidėja ėsdinimo tirpalo naudojimo laikas;
Inhibitoriaus Likonda® IC kiekis naudojamas ėsdinimo vonioje 5 – 20 cm3/dm3.
Rekomenduojama ėsdinimo vonios HСl pagrindu sudėtis ir ėsdinimo režimas
Vonios sudėtis ir ėsdinimo režimas | Ribos | Optimalus kiekis | |
Koncentruota druskos rūgštis (HСl) | 200 – 500 | 300 | cm3/dm3 |
Inhibitorius Likonda® IC | 5 – 20 | 10 | cm3/dm3 |
Tirpalo temperatūra | 15 – 30 | 25 | °C |
Panardinimo trukmė | 2 - 10 | 4 | min. |
Ėsdinimo tirpalas koreguojamas papildant jį HСl ir kompozicija Likonda® IC. Kiekvieną kartą į vonią pridedant druskos rūgšties pridedamas atitinkamas kiekis inhibitoriaus Likonda® IC.